Zirkonium Rotary Sputtering Sasaran

Zirkonium Rotary Sputtering Sasaran Penerangan

Sasaran Sputtering Rotary Zirkonium diperbuat daripada bahan zirkonium ketulenan tinggi selepas satu siri pemprosesan, dengan saiz dan bentuk bahan zirkonium ketulenan tinggi tertentu, proses penggunaannya ialah: Bahan sasaran pertama diletakkan di dalam ruang vakum, dan kemudian dihujani dengan tinggi- ion tenaga atau elektron, supaya atom atau molekul dikeluarkan dari permukaan sasaran dan dimendapkan pada permukaan substrat. Sasaran Sputtering Rotary Zirkonium mempunyai ciri-ciri ketulenan yang tinggi, prestasi pemprosesan yang baik, kelajuan salutan yang cepat dan kualiti yang tinggi, rintangan kakisan, rintangan suhu tinggi, rintangan haus, hayat perkhidmatan yang panjang, dan lain-lain. Ia boleh memberikan rintangan kakisan yang sangat baik dan suhu tinggi dan rendah perlindungan salutan suhu untuk bahagian penting dalam industri kimia atau industri aeroangkasa. Ia juga boleh digunakan dalam industri salutan kaca kawasan besar dan industri kejuruteraan elektronik.

Untuk memanjangkan hayat perkhidmatan sasaran zirkonium, kuncinya ialah memastikan keadaan yang sesuai semasa penyimpanan dan penggunaan. Semasa penyimpanan, sasaran hendaklah disimpan dalam persekitaran yang kering dan stabil suhu untuk mengelakkan pengoksidaan atau kerosakan struktur akibat kelembapan dan turun naik suhu. Semasa penggunaan, adalah penting untuk memastikan bahawa sasaran dipakai sama rata untuk mengelakkan penggunaan berlebihan tempatan. Ini termasuk pemeriksaan biasa sasaran untuk haus dan integriti struktur, serta langkah pelarasan yang sesuai.

Spesifikasi Sasaran Sputtering Rotary Zirkonium:

Zirkonium Rotary Sputtering Sasaran Gambar:

Cool tags: sasaran sputtering berputar zirkonium, pembekal, pengilang, kilang, disesuaikan, borong, harga, sebut harga, untuk dijual