Sasaran Sputtering

Sasaran Sputtering Titanium Aluminium

Titanium Aluminium Sputtering Sasaran Penerangan Sasaran sputtering merujuk kepada bahan mentah yang digunakan dalam proses pemendapan sputtering, yang merujuk kepada proses mengeluarkan atom

Tambah ke Pertanyaan
Sasaran Iridium

Bahan:Ir. Kesucian:Lebih besar daripada atau sama dengan 99.99%(4N). Ketumpatan:22.56 g/cm³. Diameter:Φ Lebih besar daripada atau sama dengan 20mm. Ketebalan:1-15mm atau disesuaikan. Lebar:10-150mm.

Tambah ke Pertanyaan
Sasaran Sputter Silikon Aluminium

Sasaran Sputter Silicon Aluminium ialah sasaran sputter aloi yang terdiri daripada aluminium dan silikon, terutamanya digunakan dalam proses pemendapan wap fizikal (PVD). Melalui teknik seperti

Tambah ke Pertanyaan
Sasaran boron b

Sasaran Boron B adalah bahan sasaran logam yang tinggi yang digunakan dalam proses PVD atau CVD . ia diperbuat daripada boron sebagai komponen utama dan dibuat ke dalam blok padat melalui metalurgi

Tambah ke Pertanyaan
Sasaran logam platinum

Sasaran logam platinum adalah bahan berfungsi yang diperbuat daripada platinum kemelut tinggi (PT) sebagai bahan mentah, yang menampilkan titik lebur yang tinggi, rintangan kakisan yang kuat,

Tambah ke Pertanyaan
Sasaran kobalt kromium tungsten

Sasaran Cobalt Chromium Tungsten adalah sejenis sasaran logam yang digunakan untuk salutan sputtering. Ia diperbuat daripada kobalt, kromium, tungsten dan elemen logam lain dengan rintangan haus yang

Tambah ke Pertanyaan
99.99% sasaran nikel nikel nik

99.99% kesucian nikel NI sasaran sputtering adalah sasaran sputtering yang diperbuat daripada bahan nikel kesucian yang tinggi dengan kekonduksian elektrik yang baik, kekonduksian terma, rintangan

Tambah ke Pertanyaan
Sasaran sputtering aluminium oksida yttrium

Yttrium aluminium oksida sasaran sputtering adalah sejenis sasaran seramik yang diperbuat daripada yttrium oksida dan aluminium oksida melalui proses tertentu. Mereka sering digunakan dalam instrumen

Tambah ke Pertanyaan
Sasaran silikon aluminium (al/si)

Sasaran silikon aluminium (AL/SI) adalah sasaran aloi yang diperbuat daripada aluminium dan silikon. Mereka dapat menahan suhu tinggi dan pengeboman ion semasa sputtering untuk mendapatkan filem aloi

Tambah ke Pertanyaan
Sasaran bulat silikon aluminium

Sasaran bulat silikon aluminium adalah sasaran aloi yang diperbuat daripada bahan silikon aluminium kemelut tinggi melalui teknologi pemprosesan ketepatan. Ia memainkan peranan penting dalam banyak

Tambah ke Pertanyaan
ZR702 sasaran zirkonium

ZR702 sasaran zirkonium adalah sasaran pusingan kemelaratan yang tinggi yang diperbuat daripada zirkonium, yang mempunyai kekuatan yang tinggi, kestabilan kimia yang baik, kekonduksian elektrik yang

Tambah ke Pertanyaan
99.95% sasaran NB2O5 tulen

99.95% sasaran NB2O5 tulen adalah sumber sputtering yang membentuk pelbagai filem berfungsi pada substrat melalui magnetron sputtering, penyaduran ion multi-arc atau jenis sistem salutan lain di

Tambah ke Pertanyaan

Rumah 12 3 4 5 6 7 Halaman terakhir 1/11

Kami terkenal sebagai salah satu pengeluar dan pembekal sasaran sputtering terkemuka di China. Jika anda akan membeli sasaran sputtering berkualiti tinggi dengan harga yang kompetitif, dialu-alukan untuk mendapatkan sebut harga dari kilang kami. Juga, perkhidmatan tersuai disediakan.

(0/10)