99.99% Nikel Sputtering Sasaran

Penerangan Sasaran Percikan Nikel 99.99%.

Bahan sasaran ialah bahan yang digunakan sebagai punca percikan atau penyejatan dalam proses pemendapan wap fizikal (PVD) atau pemendapan wap kimia (CVD), dan ketulenannya menentukan kualiti salutan. Sasaran Sputtering Nikel 99.99% ialah sasaran yang paling biasa digunakan untuk membuat filem nipis untuk peranti semikonduktor. Ia digunakan untuk membuat MRAM, rangkaian saraf seperti peranti, bahan termoelektrik, sel suria, dll., untuk meningkatkan kadar pengaliran dan hayat perkhidmatan peranti elektronik.
Ciri-ciri 99.99% Nikel Sputtering Sasaran
1. Kebolehmesinan yang baik: Ia boleh diproses dengan mudah ke dalam bentuk dan saiz yang dikehendaki melalui pelbagai teknologi pemesinan
2. Rintangan kakisan yang kuat: ia boleh berfungsi secara stabil dalam persekitaran yang keras, seperti mengekalkan prestasi yang stabil di bawah keadaan berasid atau beralkali, terutamanya sesuai untuk persekitaran perindustrian dengan kakisan kimia yang kuat.
3. Ketulenan tinggi: ketulenan adalah lebih daripada 99.99%, yang boleh mengurangkan pengenalan kekotoran dan meningkatkan prestasi produk akhir dengan berkesan.
4. Kekonduksian haba dan elektrik yang baik, kekuatan tinggi dan kemuluran yang baik
5. Struktur mikro seragam, sifat elektrik dan magnet tertentu, hayat perkhidmatan yang panjang

Spesifikasi Sasaran Percikan Nikel 99.99%:

99.99% Nikel Sputtering Sasaran Gambar

Cool tags: 99.99% sasaran sputtering nikel, pembekal, pengilang, kilang, disesuaikan, borong, harga, sebut harga, untuk dijual