Bahagian Implantasi Ion dalam Molibdenum Dan Tungsten untuk Semikonduktor

TheBahagian Implantasi Ion dalam Molibdenum Dan Tungstenialah peranti utama dalam pembuatan litar bersepadu. Apabila rasuk ion disuntik ke dalam permukaan semikonduktor dan dimendapkan, kepekatan pembawa dan jenis kekonduksian berubah.

Implantasi ion digunakan secara meluas dalam bahan semikonduktor, logam, seramik, polimer dan bidang lain kerana pengubahsuaian permukaannya yang sangat baik. Implantasi ion adalah kunci kepada pembuatan litar bersepadu (IC) berskala besar. Peranti molibdenum ialah peranti utama untuk menindas dan melindungi sinaran mengion dalam sistem sumber ion implan ion semikonduktor.

Oleh kerana penukaran sumber ion kepada ion plasma semasa implantasi ion menghasilkan suhu kerja melebihi 2000 darjah, dan pancaran pancaran ion juga menjana sejumlah besar tenaga kinetik ion, logam biasa dibakar dan cair dengan cepat.

Permohonan: Bahagian implan ion molibdenum untuk semikonduktor

1. Kebanyakan bahagian molibdenum yang digunakan untuk implantasi ion digunakan dalam industri semikonduktor;

2. Menghasilkan peranti implantasi ion molibdenum dengan ketumpatan tinggi, ketulenan tinggi, ketepatan tinggi dan struktur dalaman yang seragam;

3. Bahagian implantasi ion molibdenum kami sesuai untuk penyuntik rasuk sederhana dan penyuntik rasuk kuat;

4. Bahagian molibdenum untuk implantasi ion dihasilkan mengikut lukisan pelanggan.

5. Sesuai untuk metalurgi, nadir bumi, jentera dan industri lain

Bahagian Implantasi Ion dalam Gambar Molibdenum Dan Tungsten:

Adakah anda sebuah kilang atau syarikat perdagangan?

Kami adalah pengilang.

Berapa lama masa penghantaran anda?

3-5 hari dalam stok, jika tidak, 15-30 hari

Bolehkah anda memberi saya sampel?

Ya, kami menyediakan sampel secara percuma, anda hanya perlu menanggung kos penghantaran dan bank.

Cool tags: bahagian implantasi ion dalam molibdenum dan tungsten, pembekal, pengilang, kilang, disesuaikan, borong, harga, sebut harga, untuk dijual