1. Kesucian
Ketulenan sasaran titanium mempunyai pengaruh yang besar terhadap sifat-sifat filem tergagap. Semakin tinggi ketulenan sasaran, semakin sedikit zarah unsur kekotoran dalam filem yang terpercik, dan semakin baik prestasi filem (seperti rintangan kakisan, sifat optik dan elektrik). Dalam aplikasi praktikal, keperluan ketulenan sasaran titanium untuk tujuan yang berbeza adalah berbeza. . Sebagai contoh, keperluan ketulenan sasaran untuk salutan hiasan am tidak menuntut, manakala sasaran untuk litar bersepadu, badan paparan dan medan lain mempunyai keperluan yang lebih tinggi untuk ketulenan, secara amnya sekitar 99.999 peratus atau lebih tinggi.
2. Saiz bijirin purata
Biasanya sasaran titanium mempunyai struktur polihabluran, dan saiz butiran boleh berkisar dari mikron hingga milimeter. Kadar sputtering sasaran bijirin bersaiz halus adalah lebih cepat daripada sasaran berbutir kasar. Pengagihan ketebalan filem terdeposit semburan juga agak seragam. Saiz butiran purata sasaran titanium untuk litar bersepadu secara amnya diperlukan dalam lingkungan 30 μm, dan saiz butiran purata sasaran titanium berbutir ultrahalus adalah di bawah 10 μm.
3. Orientasi kristal
Titanium mempunyai struktur heksagon yang rapat. Semasa sputtering, atom sasaran titanium mudah tersembur sepanjang arah susunan heksagon atom. Oleh itu, untuk mencapai kadar sputtering tertinggi, adalah mungkin untuk meningkatkan kadar sputtering dengan mengubah struktur kristal sasaran. kadar terpercik. Arah penghabluran sasaran titanium juga mempunyai pengaruh yang besar pada keseragaman ketebalan lapisan filem terpercik, dan saiz filem paparan rata dan salutan hiasan agak tebal, jadi keperluan untuk orientasi butiran sasaran titanium yang sepadan adalah agak rendah.
4. Geometri dan saiz
Ia terutamanya dicerminkan dalam ketepatan pemprosesan dan kualiti pemprosesan, seperti saiz pemprosesan, kerataan permukaan, kekasaran, dll. Ketebalan kecil akan menjejaskan hayat perkhidmatan sasaran; permukaan pengedap yang terlalu kasar dan alur pengedap akan menyebabkan masalah vakum selepas sasaran dipasang; kekasaran permukaan sputtering sasaran boleh menjadikan permukaan sasaran penuh dengan petua yang menonjol, di bawah tindakan kesan hujung, potensi petua yang dibangkitkan ini akan meningkat dengan banyak, dengan itu memecahkan nyahcas dielektrik. Walau bagaimanapun, tonjolan yang terlalu besar memudaratkan kualiti dan kestabilan sputtering.
Syarikat kami boleh menyediakan aloi titanium sepertiSasaran Sputter Aluminium TitaniumdanSasaran Sputtering Titanium Ti, serta sasaran titanium dengan ketulenan dan bentuk yang berbeza, dan juga menerima perkhidmatan tersuai. Jika perlu, sila hubungi kami melalui e-mel.
