Sasaran Sputtering Molibdenum (Mo).

Penerangan Sasaran Sputtering Molibdenum (Mo).

Sebagai teknologi penyediaan bahan filem nipis yang canggih, sputtering mempunyai dua ciri: "kelajuan tinggi" dan "suhu ultra-rendah". Sasaran Sputtering Molibdenum (Mo) ialah pepejal yang dihujani oleh aliran ion berkelajuan tinggi semasa pemprosesan sputtering, yang boleh mengeluarkan filem dengan kecerahan tinggi, warna tinggi, ketahanan, rintangan kakisan, lekatan tinggi dan hayat perkhidmatan yang panjang. Sasaran Sputtering Molibdenum (Mo) selalunya diperbuat daripada bahan aloi molibdenum atau molibdenum tulen melalui metalurgi serbuk atau peleburan pancaran elektron. Mereka memainkan peranan penting dalam bidang perubatan dan sains bahan, kimia, fizik dan bidang lain.

Penggunaan Sasaran Sputtering Molibdenum (Mo):
1. Industri elektronik: bahan sasaran molibdenum digunakan terutamanya dalam paparan rata, elektrod bateri filem nipis dan bahan pendawaian dan bahan mentah lapisan penghalang peranti semikonduktor.
2. Bidang perubatan: Terutamanya digunakan dalam bidang perubatan penjana sinar-X, mesin CT, peralatan MRI, dsb., untuk menghasilkan sinar-X bertenaga tinggi untuk membantu doktor mendiagnosis dan merawat.
3. Medan aeroangkasa: Filem yang terbantut oleh sasaran boleh digunakan untuk meningkatkan prestasi permukaan dan hayat perkhidmatan komponen penting.
4. Bidang penyelidikan saintifik: boleh membantu menyediakan filem pemendapan wap kimia (CVD), analisis bahan mikrostruktur.

Spesifikasi Sasaran Sputtering Molibdenum (Mo):

Gambar Sasaran Molibdenum (Mo) Sputtering:

Cool tags: sasaran sputtering molibdenum (mo), pembekal, pengilang, kilang, disesuaikan, borong, harga, sebut harga, untuk dijual