Sasaran Sputtering Titanium-Silicon
Perihalan Sasaran Sputtering Titanium-Silicon
Sasaran Sputtering Titanium-Silicon boleh memberikan lapisan bahan keras nitrida dengan sifat yang sangat baik, kerana silikon menjamin rintangan pengoksidaan yang tinggi, manakala titanium memberikan kekerasan khas dan rintangan haus. Gabungan kedua-dua elemen ini boleh digunakan pada suhu yang sangat tinggi Bahagian bawahnya tahan haus. Sasaran Sputtering Titanium-Silicon ialah sasaran aloi yang sangat biasa digunakan dalam teknologi sputtering magnetron, yang boleh dijadikan sasaran berbentuk cakera, tiub dan berbentuk plat melalui proses pemutus. Tujuan utamanya adalah untuk menyalut acuan dan alat dengan salutan keras dan tahan haus, yang boleh meningkatkan kecekapan kerja dan memanjangkan hayat perkhidmatan alat pemprosesan. Sasaran Sputtering Titanium-Silicon mempunyai ciri-ciri kekuatan mekanikal yang tinggi, rintangan haus yang baik, rintangan kakisan yang kuat dan rintangan hentaman yang baik, sesuai untuk salutan kaca automotif, industri salutan paparan, industri semikonduktor, kejuruteraan elektronik, pemprosesan logam dan industri hiasan dll.
Sasaran Sputtering Titanium-Silicon Spesifikasi:
|
Gred |
85:15at peratus,80:20at peratus,75:25at peratus,70:30at peratus,dsb. |
|
Teknik |
Penekanan isostatik panas, Kimpalan, Pensinteran, Penempaan, Penyepuhlindapan |
|
Kesucian |
99.9 peratus -99.99 peratus |
|
Ketumpatan |
4.37g/sm3 |
|
Ketebalan |
3mm-30mm |
|
Panjang |
10mm-2000mm |
|
Diameter Pekeliling |
50-100mm |
|
taip |
Planar, Tiub, Cakera, Silinder |
|
Permukaan |
Digilap, Pembersihan Alkali, Pengisaran, Oksida Hitam, dll. |
|
Pensijilan |
ISO9001 |
Gambar Sasaran Percikan Titanium-Silikon:


Cool tags: sasaran sputtering titanium-silikon, pembekal, pengilang, kilang, disesuaikan, borong, harga, sebut harga, untuk dijual
Hantar pertanyaan
