Sasaran PVD Aloi Aluminium Titanium
Penerangan Sasaran PVD Aloi Aluminium Titanium
Sasaran salutan ialah sumber sputtering yang membentuk pelbagai filem berfungsi pada substrat dengan sputtering di bawah keadaan proses yang sesuai melalui sputtering magnetron, penyaduran ion berbilang arka atau jenis sistem salutan lain. Secara ringkasnya, bahan sasaran adalah bahan sasaran yang dibombardir oleh zarah bercas berkelajuan tinggi. Sasaran PVD Aloi Aluminium Titanium mempunyai kekuatan mekanikal yang lebih baik, rintangan kakisan yang lebih baik, biokompatibiliti yang lebih baik, rintangan keletihan yang lebih tinggi, prestasi salutan yang tinggi, hayat perkhidmatan yang panjang dan rintangan hentaman daripada sasaran logam lain. Lebih baik menunggu. Sasaran PVD Aloi Aluminium Titanium sering dibuat dengan kaedah pemutus peleburan dan kaedah pensinteran serbuk, dan boleh digunakan secara meluas dalam banyak bidang salutan vakum seperti hiasan, pemprosesan acuan, kaca, peranti elektronik, semikonduktor, rakaman magnetik, paparan rata, sel solar, dll. Syarikat kami boleh menyediakan sasaran rata (sasaran segi empat tepat dan sasaran lengkok) dan sasaran tiub. Jika perlu, sila hubungi kami melalui e-mel.
Spesifikasi Sasaran PVD Aloi Aluminium Titanium:
|
Gred |
TiAl25/75,30/70,40/60 |
|
Teknik |
Penekanan isostatik panas, Peleburan, Pensinteran, Penempaan, Penyepuhlindapan |
|
Kesucian |
99.5-99.9% |
|
Diameter |
2-300 mm |
| Ketebalan | 10-50mm |
|
Ketumpatan |
4.5g/sm3 |
|
bentuk |
Bulat |
|
Permukaan |
Digilap, Pembersihan Alkali, Pengisaran, Oksida Hitam |
|
Masa penghantaran |
20-30 hari |
|
Pensijilan |
ISO9001 |
Gambar Sasaran PVD Aloi Aluminium Titanium


Cool tags: sasaran pvd aloi aluminium titanium, pembekal, pengilang, kilang, disesuaikan, borong, harga, sebut harga, untuk dijual
Hantar pertanyaan


