Sasaran Sputtering Molibdenum

Penerangan Sasaran Molibdenum Sputtering

Molibdenum Sputtering Target ialah bahan sputtering yang sangat mesra alam. Ketulenannya biasanya melebihi 99.95 peratus. Ia mempunyai kekuatan tinggi, kekonduksian elektrik dan haba yang baik, pekali pengembangan haba yang rendah, struktur dalaman seragam, rintangan kakisan yang baik dan ketahanan. Kuat dan ciri-ciri cemerlang lain. Permukaan Sasaran Sputtering Molibdenum boleh dikatakan cerah, digilap dan digulung, dan bentuknya boleh bulat, segi empat tepat dan tiub. Sasaran Sputtering Molibdenum sering digunakan dalam industri salutan vakum, industri aeroangkasa, industri automotif marin, industri instrumentasi, dan industri fotovoltaik.

Apakah Sasaran Sputtering?

Sasaran Sputtering dibangunkan pada abad ke-20 sebagai teknik pemendapan filem nipis, proses purba mekanisme pemendapan wap fizikal, tetapi juga mempunyai banyak kegunaan dalam teknologi dan pembuatan moden. Proses ini bermula dengan meletakkan substrat (atau item lain yang akan disalut) ke dalam ruang vakum yang mengandungi dua magnet. Selepas gas terkawal, seperti argon, dimasukkan ke dalam ruang, atom ditarik dari substrat dengan magnet. Atom-atom ini kemudian berlanggar antara satu sama lain dalam keadaan gas, terpeluwap menjadi plasma, dan kering menjadi filem nipis pada substrat, akhirnya membentuk salutan nipis, tahan lama yang sesuai untuk salutan pada pelbagai peranti. Ketulenan kimia logam adalah kunci kepada pembuatan sasaran sputtering. Lebih tinggi ketulenan, lebih baik prestasi filem yang didepositkan.

Sasaran Sputtering MolibdenumSpesifikasi:

Gambar Sasaran Molibdenum Sputtering:

Cool tags: sasaran sputtering molibdenum, pembekal, pengilang, kilang, disesuaikan, borong, harga, sebut harga, untuk dijual