Sasaran Tembaga Ketulenan Tinggi
Sasaran Tembaga Ketulenan Tinggiadalah sasaran proses PVD yang diperbuat daripada bahan tembaga ketulenan tinggi selepas metalurgi serbuk atau proses lebur, terutamanya digunakan dalam industri semikonduktor untuk mendepositkan filem tembaga pada litar bersepadu, dan juga boleh digunakan sebagai bahan sentuhan belakang untuk mewujudkan sambungan antara sel solar dan litar luaran . Sasaran Tembaga Ketulenan Tinggi juga digunakan untuk menghasilkan salutan hiasan berkualiti tinggi pada pelbagai bahan seperti kaca, plastik dan seramik untuk memenuhi keperluan pelanggan bagi rintangan kilauan dan kakisan produk yang digunakan.
Kelebihan Sasaran Tembaga Ketulenan Tinggi
1. Ketulenan tinggi sasaran menentukan kualiti tinggi, keseragaman yang baik, dan tiada kekotoran filem yang didepositkan
2. Kekonduksian haba yang baik, pelesapan haba, dan rintangan suhu tinggi
3. Ketumpatan tinggi, boleh menahan ketumpatan kuasa tinggi tanpa lebur atau degradasi
4. Mudah diproses dan dibentuk ke dalam pelbagai bentuk, termasuk cakera, segi empat tepat dan sasaran berputar
5. Ia boleh digunakan sebagai bahan backplane untuk menyediakan sokongan yang stabil untuk sasaran sputtering, meningkatkan kecekapan sputtering, dan hayat perkhidmatan sasaran
Dimensi Sasaran Kuprum Ketulenan Tinggi
|
bahan |
Cu |
|
Kesucian |
99.95% |
|
Saiz |
Φ60 x 16mm |
|
Ketebalan |
2.5mm |
|
Ketumpatan |
8.9g/sm3 |
|
Takat Lebur |
1083 darjah |
|
Permukaan |
Digilap, Basuh Beralkali |
|
Masa Penghantaran |
25 hari |
|
Standard |
ASTM, GB, ANSI |
|
Pensijilan |
ISO9001 |
Gambar Sasaran Tembaga Ketulenan Tinggi


Cool tags: sasaran tembaga ketulenan tinggi, pembekal, pengilang, kilang, disesuaikan, borong, harga, sebut harga, untuk dijual
Hantar pertanyaan


