Sasaran Sputter Chromium Ketulenan Tinggi

Penerangan Sasaran Sputter Chromium Ketulenan Tinggi

Kromium ialah logam peralihan keluli kelabu, berkilat, keras dan rapuh. Sasaran Sputter Kromium Ketulenan Tinggi biasanya dihasilkan menggunakan lebur vakum atau proses menekan isostatik panas. Ia mempunyai ciri-ciri takat lebur yang tinggi, rintangan kakisan, rintangan suhu tinggi, rintangan hentaman, rintangan haus, kekuatan tinggi dan kekerasan, dan boleh terpercik dengan ketulenan dan lekatan yang tinggi. Filem berkualiti tinggi dengan sifat yang tinggi, keseragaman yang baik, rintangan kakisan yang sangat baik, rintangan haus dan ketahanan. Dalam industri pemprosesan vakum, Sasaran Sputter Kromium Ketulenan Tinggi boleh menghasilkan rasuk ion kromium yang agak stabil, yang membolehkan ia digunakan untuk membuat substrat atau salutan permukaan untuk melindungi substrat atau untuk membuat beberapa industri yang memerlukan rintangan pengoksidaan yang tinggi. Komponen. Sasaran Sputter Chromium Ketulenan Tinggi biasanya digunakan dalam proses pemprosesan PVD dan CVD untuk menghasilkan salutan hiasan, salutan tahan kakisan dan salutan reflektif. Ia juga boleh menyalut salutan kromium dengan warna yang berbeza dengan melaraskan parameter proses.

Spesifikasi Sasaran Sputter Chromium Ketulenan Tinggi:

Gambar Sasaran Sputter Chromium Ketulenan Tinggi:

Cool tags: sasaran sputter kromium ketulenan tinggi, pembekal, pengilang, kilang, disesuaikan, borong, harga, sebut harga, untuk dijual