Sasaran Sputtering Planar Chromium

Ciri & Aplikasi Sasaran Pemercik Planar Chromium

Unsur kromium asal perlu ditulenkan melalui satu siri proses seperti peleburan suhu tinggi, penapisan dan elektrolisis, dan kemudian bahan kromium yang telah dimurnikan diproses ke dalam bentuk dan saiz sasaran yang diperlukan oleh pemprosesan haba. Chromium Planar Sputtering Target biasanya diperbuat daripada serbuk kromium ketulenan tinggi. Ia sering digunakan sebagai sumber penyejatan proses pengubahsuaian salutan permukaan. Ia boleh digunakan secara meluas dalam kunci, alat perkakasan, lampu, pisau mekanikal, cangkerang produk berteknologi tinggi dan bahagian kereta dan motosikal. tunggu. Chromium mempunyai takat lebur yang tinggi dan rintangan pengoksidaan yang tinggi, membolehkan Chromium Planar Sputtering Target mengekalkan prestasi cemerlang dalam persekitaran suhu tinggi, jadi ia sangat sesuai untuk menyalut salutan kromium pada bahagian yang terdedah dan penting untuk memanjangkan hayat perkhidmatan peralatan utama. Chromium Planar Sputtering Target juga boleh digunakan untuk teknologi filem nipis pemendapan fizikal dalam pembuatan sel fotovoltaik, industri automotif, industri aeroangkasa dan komponen elektronik, paparan dan peranti mikroelektronik.

Spesifikasi Sasaran Sputtering Planar Chromium:

Gambar Sasaran Memercik Planar Chromium:

Cool tags: sasaran sputtering planar kromium, pembekal, pengilang, kilang, disesuaikan, borong, harga, sebut harga, untuk dijual