Sasaran Sputter Bulat Boron
Penerangan Sasaran Boron Round Sputter
Boron Round Sputter Target ialah bahan yang digunakan untuk penyediaan filem. Ia diperbuat daripada bahan boride melalui metalurgi serbuk (menekan serbuk logam di bawah suhu tinggi dan tekanan tinggi) atau lebur arka vakum (mencairkannya dengan pemanasan arka dalam ruang vakum). Kemudian pepejal pada sasaran), ia mempunyai ciri-ciri yang sangat baik seperti prestasi pemprosesan yang tinggi, kestabilan haba yang tinggi, ketumpatan tinggi, rintangan kakisan yang baik, kekuatan mekanikal yang tinggi, kualiti salutan yang tinggi, rintangan haus, dan hayat perkhidmatan yang panjang. Boron Round Sputter Target digunakan terutamanya untuk menyediakan pelbagai filem berfungsi, seperti salutan keras, filem magnetik, filem optik, filem anti-reflektif, dan lain-lain, untuk sputtering pada peralatan elektronik, cip semikonduktor, sel solar, peranti optik dan lain-lain tinggi- hiasan akhir Bekalan dll. Jika perlu, sila hubungi kami melalui e-mel.
Spesifikasi Sasaran Boron Round Sputter:
|
bahan |
Boron(B) |
|
Teknik |
Penekanan isostatik panas, Penghalusan bijirin, Pensinteran, Penempaan, Penyepuhlindapan |
|
Kesucian |
99.5%,99.9%, 99.99% |
|
Diameter |
Kurang daripada atau sama dengan 480mm |
|
Ketebalan |
Lebih besar daripada atau sama dengan 1mm |
|
Ketumpatan |
2.34g/sm3 |
|
Takat lebur |
2300 darjah |
|
bentuk |
Cakera, Pinggan, Sasaran Lajur, Sasaran Langkah, Dibuat Tersuai |
|
Permukaan |
Digilap, Pembersihan Alkali, Pengisaran, Oksida Hitam, dll. |
|
Pensijilan |
ISO9001 |
Gambar Sasaran Boron Round Sputter:


Cool tags: sasaran sputter bulat boron, pembekal, pengilang, kilang, disesuaikan, borong, harga, sebut harga, untuk dijual
Hantar pertanyaan


