Sasaran Sputter Kromium Aluminium
Ciri Sasaran Sputter Aluminium Chromium
Permintaan yang semakin meningkat untuk bahan percikan aloi mencerminkan trend semasa untuk mencipta salutan permukaan keras pelbagai fungsi dalam pemprosesan logam, industri aeroangkasa dan kejuruteraan kuasa. Kaedah pengeluaran Chromium Aluminium Sputter Target boleh menerima pakai proses seperti lebur vakum, pensinteran serbuk, penekan isostatik panas ( HIP), penyemperitan vakum, penempaan, pemotongan wayar, pengilangan dan penggilap, dan ikuti sistem pengurusan kualiti ISO9001. Aluminium membentuk salutan reflektif yang sangat konduktif haba, manakala krom membentuk salutan licin yang sangat tahan kakisan. Oleh itu, salutan yang dihasilkan oleh Chromium Aluminium Sputter Targets boleh memberikan perlindungan yang sangat baik, rintangan mampatan, rintangan haus, dan seterusnya meningkatkan kecekapan kerja dan memanjangkan hayat perkhidmatan untuk alatan bersalut. Sasaran Sputter Aluminium Chromium sangat sesuai untuk aplikasi dalam pemprosesan logam, pencahayaan automotif, aeroangkasa, peralatan elektronik, industri semikonduktor, industri OLED dan optik, dll. Jika perlu, dialu-alukan untuk menghubungi kami melalui e-mel.
Spesifikasi Sasaran Sputter Aluminium Chromium:
|
bahan |
CrAl (30/70,) |
|
Kesucian |
99.5 peratus |
|
Teknik |
Pensinteran, Penempaan, Penyepuhlindapan, Pemotongan, Pencairan Vakum, Pemesinan |
|
Saiz |
Cakera(Dia<650mm, Thickness >1mm) Langkah Segiempat (Panjang<1500mm, Width<300mm, Thickness>1mm) Tiub (OD:20mm-160mm, Tebal:2-20mm) |
|
Ketumpatan |
5.6g/sm3 |
|
Permukaan |
Digilap, Cerah, Pembersihan Kimia, Oksida Hitam, dll. |
|
bentuk |
Plat, Wafer, Segi Empat, Segi Empat, Bulatan, Tiub |
|
Sampaikan masa |
15-20 hari |
|
Standard |
ASTM,GB |
|
Pensijilan |
ISO9001 |
Gambar Sasaran Sputter Aluminium Chromium:
Cool tags: sasaran sputter kromium aluminium, pembekal, pengilang, kilang, disesuaikan, borong, harga, sebut harga, untuk dijual
Hantar pertanyaan
