Sasaran salutan ialah sumber sputtering yang membentuk pelbagai filem berfungsi pada substrat dengan sputtering di bawah keadaan proses yang sesuai melalui sputtering magnetron, penyaduran ion berbilang arka atau jenis sistem salutan lain. FANMETAL boleh menyediakan pelbagai sasaran salutan logam seperti99.95% Sasaran Sputter Zirkonium, Sasaran Sputter Chromium Ketulenan Tinggiatau 99.5% Boron Sputtering Sasaran. Selamat datang untuk menghubungi kami melalui e-mel.
1. Salutan hiasan
Salutan hiasan terutamanya merujuk kepada salutan permukaan telefon bimbit, jam tangan, cermin mata, peralatan kebersihan, bahagian perkakasan dan produk lain. Ia bukan sahaja mempunyai kesan mencantikkan warna, tetapi juga mempunyai fungsi rintangan haus dan rintangan kakisan. Jenis sasaran utama untuk salutan hiasan termasuk: sasaran kromium (Cr), sasaran titanium (Ti), zirkonium (Zr), nikel (Ni), tungsten (W), aluminium titanium (TiAl), sasaran keluli tahan karat, dll.
2. Alat dan salutan acuan
Ia digunakan terutamanya untuk mengukuhkan penampilan alat pemprosesan, yang boleh meningkatkan hayat perkhidmatan acuan dan kualiti bahagian yang diproses dengan ketara. Menurut statistik, bahagian salutan alat pemesinan di negara maju telah melebihi 90%. Perkadaran salutan alat di negara kita juga sentiasa meningkat, dan permintaan untuk bahan sasaran untuk salutan alat semakin berkembang dari hari ke hari. Jenis utama ialah: sasaran TiAl, sasaran aluminium kromium (CrAl), sasaran Cr, sasaran Ti, dsb.
3. Salutan pelindung
Ia digunakan terutamanya pada substrat untuk melindungi dan memanjangkan hayat perkhidmatannya. Filem pelindung termasuk filem pelindung kakisan, filem pelincir dan filem pelindung haba. Filem TiC sputtered dan BN sputtered filem sering digunakan sebagai salutan kekerasan tinggi dalam alat pemotong dan pengisaran.
4. Salutan elektrik
Sasaran sputtering boleh digunakan untuk mengeluarkan bahan konduktif dan filem dielektrik, filem superkonduktor dan filem ITO dalam peranti semikonduktor dan litar bersepadu.
5. Salutan sel suria
Pada masa ini, sel solar telah dibangunkan untuk beberapa generasi. Yang pertama ialah sel solar silikon monohablur, generasi kedua ialah sel suria silikon amorf dan silikon polihablur, dan generasi ketiga ialah sel solar filem nipis. Proses salutan sputtering adalah untuk menyediakan filem cadmium telluride (CdTe), filem copper indium gallium selenide (CIGS) dan arsenik Kaedah yang paling biasa untuk filem nipis galium klorida (GaAs). Sasaran sputtering CIGS ialah sasaran sputtering yang diwakili oleh aplikasi tenaga suria. Ia terdiri daripada empat unsur logam iaitu kuprum (Cu), indium (In), galium (Ga) dan selenium (Se). Filem CIGS yang terpercik pada sel suria mempunyai kelebihan penyerapan cahaya yang kuat, kestabilan penjanaan kuasa yang baik, dan kecekapan penukaran yang tinggi. Ia boleh menjadikan sel solar menjana tenaga elektrik untuk masa yang lama pada siang hari dan menjana sejumlah besar tenaga elektrik. Semasa proses salutan, ketulenan dan kualiti sasaran sputtering CIGS secara langsung akan menjejaskan kualiti filem yang dihasilkan.
