Sasaran ialah bahan yang digunakan dalam eksperimen saintifik, pemprosesan industri atau aplikasi teknikal lain, terutamanya untuk menyerap, memantulkan atau mengubah arah dan sifat aliran zarah, sinar atau gelombang elektromagnet. Jenis biasa termasuk sasaran logam, sasaran seramik, sasaran aloi dan sasaran komposit. Setiap jenis mempunyai sifat fizikal dan kimianya sendiri dan sesuai untuk senario aplikasi yang berbeza.
1.Kelaskan
(1) Sasaran logam
Ia digunakan secara meluas kerana kekonduksian elektrik dan haba yang sangat baik. Seperti tembaga, aluminium, titanium, dan lain-lain, sering digunakan dalam penyejatan rasuk elektron dan teknologi salutan sputtering.
(2) Bahan sasaran seramik
Sasaran seramik diutamakan kerana takat lebur yang tinggi, rintangan kakisan dan kestabilan kimia. Seperti alumina, silikon nitrida, digunakan secara meluas dalam suhu tinggi dan persekitaran yang menghakis.
(3) Bahan sasaran aloi
Dengan menggabungkan unsur logam yang berbeza, sasaran aloi menggabungkan kelebihan pelbagai logam. Seperti keluli tahan karat, loyang, untuk aplikasi elektronik atau optik tertentu.
(4) Bahan sasaran komposit
Jenis sasaran ini mencapai sifat keseluruhan yang sangat baik dengan menggabungkan dua atau lebih bahan. Komposit bertetulang tiub nano karbon, sebagai contoh, digunakan dalam aplikasi berkekuatan tinggi dan ringan.
(5) Nadir bumi dan sasaran bahan khas:
Sasaran ini digunakan untuk aplikasi khas kerana sifat fizikal dan kimianya yang unik. Seperti unsur nadir bumi neodymium, digunakan dalam pembuatan aloi khas dan bahan magnet yang kuat.
2. Proses penyediaan
(1) Teknologi metalurgi serbuk
Permohonan: Sesuai untuk penyediaan sasaran seramik dan beberapa aloi khas.
Proses: Bahan mentah serbuk dicampur, ditekan untuk membentuk, dan kemudian disinter pada suhu tinggi.
Kelebihan: Ia boleh menghasilkan sasaran dengan bentuk kompleks dan komposisi seragam, yang sesuai untuk aplikasi yang memerlukan ketepatan tinggi.
(2) Teknologi peleburan
Permohonan: Terutamanya digunakan untuk penyediaan sasaran logam, seperti tembaga, aluminium dan sebagainya.
Proses: melibatkan pemanasan bahan mentah di atas takat lebur dan kemudian menyejukkannya mengikut prosedur penyejukan khusus untuk membentuk struktur kristal yang dikehendaki.
Ciri-ciri: Pengeluaran besar-besaran boleh dicapai, tetapi kelajuan penyejukan dan persekitaran perlu dikawal dengan ketat untuk mengelakkan kecacatan bahan.
(3) Pemendapan Wap Kimia (CVD)
Permohonan: Digunakan untuk menyediakan sasaran filem nipis, seperti filem silikon, filem oksida logam, dll.
Teknik: Filem homogen terbentuk pada substrat melalui tindak balas kimia.
Ciri-ciri: Ketebalan dan komposisi filem boleh dikawal dengan tepat, tetapi peralatan dan prosesnya lebih kompleks.
(4) Pemendapan Wap Fizikal (PVD)
Permohonan: Ia juga sesuai untuk penyediaan sasaran filem nipis, terutamanya filem logam dan aloi.
Proses: Kaedah fizikal (seperti sputtering atau penyejatan) membentuk filem nipis pada substrat.
Kelebihan: Sesuai untuk penyediaan bahan ketulenan tinggi, boleh mencapai kawalan kualiti filem yang lebih baik.
(5) Teknologi pembentukan laser
Inovasi: Penyediaan sasaran untuk bentuk dan struktur yang kompleks, terutamanya dalam prototaip dan pengeluaran siri kecil.
Kelebihan: Ketepatan tinggi dan fleksibiliti untuk menghasilkan sasaran terus daripada model komputer.
(6) Kaedah elektrokimia
Permohonan: Sesuai untuk penyediaan sasaran logam dan aloi tertentu.
Ciri-ciri: Bahan didepositkan melalui proses elektrolitik, yang boleh dijalankan pada suhu yang lebih rendah, yang kondusif untuk mengekalkan ketulenan kimia bahan.
Memilih sasaran yang betul memerlukan pertimbangan senario aplikasi, sifat fizikal dan kimia yang diperlukan, dan keberkesanan kos. Trend semasa adalah untuk meningkatkan ketulenan dan keseragaman bahan sasaran, mengurangkan kecacatan pembuatan, dan membangunkan kaedah penyediaan yang lebih mesra alam dan kos efektif. Syarikat kami boleh menyediakan sasaran logam ketulenan tinggi atau sasaran aloi lain, jika anda perlukan, sila hantar e-mel untuk menghubungi kami.
